荷兰光刻机为什么厉害

1、强大的研发投入：光刻机是一个高精尖的技术，其技术难度是全球公认的，如果没有持续强大的研发投入根本不可能到技术领先。asml从成立至今，对于研发的投入都非常大，比如2019年asml的销售额大概是21亿欧元，而研发费用支出就达到了4.8亿欧元，研发费用占营收的比例达到22.8%，这个比例是非常高的，正因为有大量资金的投入，所以asml在关键技术领域一直处于领先地位。

2、美国以及欧盟的支持：虽然asml是一家荷兰公司，但他背后却有着欧盟以及美国的力量，多关键技术都由美国以及欧盟国家提供。比如德国先进的机械工艺以及世界级的蔡司镜头，再加上美国提供的光源，这就使得asml公司在光科技术方面飞速发展，几乎到达了无人能敌的境地。

3、准确抓住了技术转折点：目前世界最顶尖的光刻机有三个厂家，分别是asml，尼康和佳能。2007年之前这三大厂家其实并没有太大的差距，竞争的转折点是出现在2007年。2007年asml配合台积电的技术方向，推出了193纳米的光源浸没式系统，在光学镜头和硅晶圆片导入液体作为介质，在原有光源与镜头的条件下，能显著提升蚀刻精度，并成为高端科技的主流技术方案。而当时日本的尼康与佳能却主推157纳米光源的干式光刻，这个路线后来被市场所放弃，也成为尼康跟佳能迈入衰退的一个转折点，后来才有了asml的垄断。

延伸阅读

光刻机为什么那么难制造

1、首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长。其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国著名厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的，它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明，美国生产的7纳米芯片，是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难，因为相机只需要控制光圈，而光刻机不仅仅是要控制光的大小，还要能够利用光。

2、其次，光刻机的研发需要大量的资金支持，很多企业难以承担高昂的研发费用。美国等发达国家研究光刻机，几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用，几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。

3、最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克。从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。

芯片为什么要用光刻机资讯

1、光刻机（mask aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 mask alignment system.

2、因为芯片远比这小得多，动不动就是nm的，这些最小也就是μm级别，那么到底是什么刻刀能做到这么精细。所以就想到了，用光线在芯片上刻，就是光刻机。

3、photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。形象的来说光刻机就是个“投影仪”，把我们想要的图案投影到芯片上。

光刻机到底难在哪里

1、难在它的制造精度，为了便于形象地解释，光刻机制造芯片的过程就相当于“冲洗照片”。设计好的集成电路的电路图相当于照片的“拍摄的内容”，晶圆就相当于“相纸”，光刻机的其它机构就相当于与照相机的“镜头机构”。

2、不同的是洗照片是将照片放大呈现到相纸上，制造芯片是将设计的集成电路微缩到晶圆上拇指大小的区域内，而且电路的投影精度达到了纳米量级。

3、光刻机的加工过程，光刻机技术发展已经发展到了紫外光阶段，我们就以紫外光为例说明。光刻机加工芯片的过程简单地讲就是，光源提供的紫外光照射到刻着电路设计图的掩模板上，紫外光透过掩模板后进入物镜，物镜将掩模板上的电路图大比例的缩小后，将电路投影到硅片上，这样硅片上就刻下设计好的电路图，这个过程中曝光台和测量台处于联动的状态。